内閣府、クールジャパン人材の育成に向けた意見募集（24日）（外国人にとっての）日本の魅力のブランド戦略に関して、新たな高等教育専門機関制度設計を含め広範囲で
「知財法」一覧
官報、工業所有権に関する手続等の特例に関する法律施行規則の一部を改正する省令（経済産業九）（24日）
特許庁、審判実務者研究会報告書2016の公表について（22日）
特許庁、意匠登録出願の願書及び図面等の記載の手引き（22日）
文化庁、文化審議会著作権分科会 法制・基本問題小委員会 平成28年度「新たな時代のニーズに的確に対応した制度等の整備に関するワーキングチーム」（第6回、2月13日）議事次第・配布資料一覧
日弁連、「知的財産推進計画2017」策定に係る検討課題に関する意見書（16日）
農水省、植物品種の保護に係る審査協力に関する協力覚書への署名について（16日）
知財高判、不正競争行為差止等請求控訴事件で控訴棄却（被控訴人：日亜化学工業（株）、主な争点： 虚偽事実の陳述流布、構成要件充足性等）（1月18日）
日亜化学工業、日亜がEverlight社に対しドイツ・デュッセルドルフ高裁判決を順守するよう要求（6日）
日亜化学工業、デュッセルドルフ裁判所が、Mouser社に対して、Everlight社製品に関する日亜YAG特許侵害差止の仮処分命令に従わなかった事を理由に罰金を科す（6日）
日亜化学工業、Everlight社による差止等請求訴訟における当社の勝訴判決（6日）
経産省、第四次産業革命を視野に入れた知財システムの在り方に関する検討会（第6回、2月6日）配布資料（15日）
経産省、産業構造審議会 知的財産分科会 営業秘密の保護・活用に関する小委員会（第8回、2月15日）配布資料（15日）
特許庁、「ロカルノ（11版） ─ （現行）日本意匠分類 対照表」を掲載（15日）
◆SH1008◆経産省、「カメラ画像利活用ガイドブックver1.0」を策定 松原崇弘（2017/02/09）
日本電産、当社子会社の中国における特許侵害訴訟について（9日）
特許庁、商標早期審査・早期審理の概要（6日）
特許庁、産業構造審議会知的財産分科会意匠制度小委員会第10回意匠審査基準ワーキンググループ（2月6日）議事次第・配布資料一覧
特許庁、「商標審査基準」改訂案に対する意見募集について 改訂案（5条～その他）に一部追加（3日）
特許庁、国際出願関係手数料（2017年3月1日以降）（1日）